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[H/W] IBM은 새로운 시험 칩으로 2나노미터 달성 [11]
무한궤도:끝을 향하여
(5127061)
출석일수 : 539일 LV.30
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작성일 2021.05.09 (12:53:27)
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추천 3 조회 3280 댓글수 11
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(IP보기클릭)220.74.***.***
역시 ibm... 아범..
(IP보기클릭)118.235.***.***
근데 7나노 5나노 이런 공정이 표준화된게 아니라 지들 기준따라 이름 붙이면 그만임 인텔 10나노가 삼성tsmc 7나노 보다 좋은거 보면 말 다했지
(IP보기클릭)121.162.***.***
평면공정일때는 게이트 길이였는데 핀펫부터는 상대적인 밀도와 전력효율로 대충 '이 정도 nm 급'이라는 의미입니다.
(IP보기클릭)211.104.***.***
헤헤 이번에 지하실의 늙은 우주인을 버리고 젊은 우주인으로 새로 잡아왔습죠
(IP보기클릭)220.74.***.***
역시 ibm... 아범..
(IP보기클릭)14.37.***.***
애미야 국이 짜다 | 21.05.09 15:24 | | |
(IP보기클릭)115.23.***.***
(IP보기클릭)211.104.***.***
헤헤 이번에 지하실의 늙은 우주인을 버리고 젊은 우주인으로 새로 잡아왔습죠
(IP보기클릭)118.235.***.***
근데 7나노 5나노 이런 공정이 표준화된게 아니라 지들 기준따라 이름 붙이면 그만임 인텔 10나노가 삼성tsmc 7나노 보다 좋은거 보면 말 다했지
(IP보기클릭)120.142.***.***
게이트 길이 기준 아닌가? fet 성능 하나만 좋다고 다 좋은 건 아니니깐. 컨택 레지스탄스나 메탈 두께, 리키지 등등 고려할 게 많음. standard cell도 어떻게 그리냐에 따라 성능과 집적도도 다 달라지고. 도와줘! 공정 전문가. 난 회로쟁이라 이 이상 몰라 | 21.05.09 16:03 | | |
(IP보기클릭)121.162.***.***
수피론
평면공정일때는 게이트 길이였는데 핀펫부터는 상대적인 밀도와 전력효율로 대충 '이 정도 nm 급'이라는 의미입니다. | 21.05.09 20:58 | | |
(IP보기클릭)120.142.***.***
땡큐 | 21.05.09 21:21 | | |
(IP보기클릭)222.108.***.***
최대 밀도는 N7이나 7LPP보다 조금 더 높은 게 맞는데 면적은 좀 더 떨어지는 것으로 압니다. 트랙 수가 더 낮아서 밀도는 좀 더 높은데 메탈2피치가 조금 딸림. | 21.05.09 21:56 | | |
(IP보기클릭)222.237.***.***
(IP보기클릭)121.162.***.***
포토마스크가 사각형이라 그래요 https://www.samsungsemiconstory.com/442 | 21.05.09 21:25 | | |